半導體石英環：蝕刻環、聚焦環和覆蓋環

在半導體制造中，精密部件對于實現高良率、穩定性和可靠性至關重要。其中，石英蝕刻環、聚焦環和覆蓋環因其優異的熱穩定性、耐化學性和尺寸精度，廣泛應用于等離子蝕刻（RIE、ICP 和 CVD 系統）

什么是石英蝕刻環？

石英蝕刻環是安裝在蝕刻室內的結構部件。其主要功能包括：

在蝕刻過程中保持等離子體均勻性

支撐晶圓并減少邊緣效應

可承受惡劣的化學環境（例如，CF?、SF?、Cl? 氣體）

與其他材料相比，可確保更長的蝕刻室組件使用壽命

由于石英具有高純度、優異的介電性能和極低的污染，因此是半導體工藝設備的首選材料之一。

半導體蝕刻中的聚焦環

石英聚焦環對于控制等離子體密度和分布至關重要。它們安裝在晶圓周圍，用于：

提高整個晶圓表面的蝕刻均勻性

最大限度地減少微負載效應

穩定臨界尺寸 (CD) 控制

保護底層蝕刻室部件免受等離子體直接暴露

精心設計的聚焦環可以顯著提高良率并降低工藝波動性。

蓋環及其功能

石英蓋環是放置在腔室表面的保護性部件，用于保護硬件免受等離子侵蝕和化學侵蝕。其優勢包括：

延長腔室組件的使用壽命

減少顆粒污染

降低設備停機時間和維護成本

蓋環通?？啥ㄖ埔赃m應不同的工具平臺，并可精確加工至±0.01毫米的公差，以實現高重復性。

應用

石英蝕刻環、聚焦環和蓋環廣泛應用于：

蝕刻設備（RIE、ICP、DRIE）

CVD 和 PECVD 系統

氧化爐和擴散爐

光刻支撐組件

定制石英加工服務

憑借先進的五軸數控加工和拋光技術，我們提供符合半導體行業標準的定制石英環。主要服務包括：

公差低至±0.001毫米

光學表面拋光 (Ra < 0.002 μm)

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