半導體制造環境極其苛刻，對材料的要求近乎“變態”。氧化鋁能脫穎而出，得益于其卓越的綜合性能組合： 極高的純度與化學穩定性： 高純氧化鋁（如99.6%、99.7%）幾乎不釋放金屬離子，能抵抗等離子體（Plasma）侵蝕、不與被加工