氮化鋁（AlN）導熱盤因其高熱導率、高電絕緣性和良好機械強度，被廣泛應用于半導體領域 高效熱管理 晶圓加熱／冷卻盤 在化學氣相沉積（CVD）、物理氣相沉積（PVD）或退火爐中，AlN 導熱盤均勻傳導加熱器產生的熱量，保證爐內溫度分布均勻，進而提升薄膜均勻性與工藝重復性。